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ソリューション


ウェーハダメージのTEM写真

近年薄いウェーハ(チップ)での強度アップが求められるようになってきました。 ウェーハの強度は、加工により発生するダメージ層の影響を大きく受けるため、ディスコでは低ダメージ研削、及びダメージ除去の研究開発を行なっております。

◆加工実例
Photo1,2は、Siウェーハを#2000とPoligrindにて加工した際のウェーハダメージ層のTEM画像です。Poligrindで研削すると、#2000で研削した際よりも、ダメージ層が浅いことが分かります(参照:抗折強度測定結果 http://www.disco.co.jp/jp/products/grinding_wheel/poligrind.html)。なお、参考までにDry Polishで加工した際のTEM画像もご紹介いたします。
 Photo.1 BG (#2000)
ダメージ層深さ:0.2μm
Photo. 2 BG (Poligrind)
ダメージ層深さ:0.1μm
Photo. 3 Dry Polish(参考)
撮影倍率 x50万倍



◆お問合せ
 この内容に関するお問い合わせは、アプリケーションWebヘルプデスクにて承ります。 ( お問い合せの流れ )





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