近年半導体産業において、高密度実装の為の小型化、薄膜化への要求が高まっています。一方、生産性向上の為の大口径化が進められています。 この二つのニーズを満たすため、コストを上げることなく開発された方法がDBGプロセスです。 従来プロセスは、直径200mmや300mmあるウェーハにパターンを保護するテープを貼り付け、グラインダーにて薄く削り0.2mm以下にする。その後、パターン面のテープを剥がし、グラインド面にダイシング用テープを貼りダイサーによりチップ状に分割する。 DBGプロセスは、パターン面にダイサーにて切り溝を入れ、グラインダーにて薄く削り(このときにチップ状に分割)グラインド面にダイシング用テープを貼り、パターン面の保護テープを剥がす(薄く大きな物を取り扱わないで小さくしてから取り扱う方法です)。