アプリケーション実例集
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ソリューション


薄研削時のチップ反り量について

チップ反りはパターン面(表面)と研削面(裏面)のストレスの不均衡が起因となり発生するものです。ウェーハ厚さが薄くなると、チップの反りは顕著になってきます。ウェーハ薄化が進む昨今、チップ反り低減は重要なアプリケーションの一つです。

◆加工実例
Fig.1は弊社の一般的な研削条件にて8インチミラーSiウェーハをt 0.05 mmに仕上げた際のチップ反り量のデータです(チップサイズ8x10mm)。

DP(ドライポリッシュ)やPE(プラズマエッチャー)後のウェーハはチップの反りが大幅に低減されているのが分かります。

Fig.1チップ反り量* 
*このグラフは対数にて表記しております

Table1 チップ反り量データ
Process
Length
Width
#2000
15549 (1.5549μm)
11665 (1.1665μm)
#2000+DP
919   (0.0919μm)
314  (0.0314μm)
#2000+PE
137  (0.0137μm)
19   (0.0019μm)
Poligrind
8956 (0.8956μm)
7098  (0.7098μm)
Poligrind+DP
128  (0.0128μm)
35   (0.0035μm)
Poligrind+PE
21   (0.0021μm)
26   (0.0026μm)
[単位:Å]

測定装置: 反射型レーザー測長機 (Chapman)




◆お問合せ
 この内容に関するお問い合わせは、アプリケーションWebヘルプデスクにて承ります。 ( お問い合せの流れ )





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